蒸銦設(shè)備是采用蒸發(fā)方式在襯底上蒸鍍微米級厚度的高質(zhì)量銦柱，是實現(xiàn)高密度三維互連工藝的關(guān)鍵設(shè)備。

激光直寫光刻機知識是一種多功能激光光刻機，采用固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源，直接在光刻膠或紫外敏感膠中刻劃出微結(jié)構(gòu)，直寫面積可達6英寸，較小特征尺寸

主要用于制備高品質(zhì)、復(fù)雜的先進薄膜材料，屬于高端薄膜制備設(shè)備，用于生長各種微納米尺度的單層膜或多層膜材料，可制備超硬膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導(dǎo)薄膜、磁性薄膜、光學(xué)薄膜，以及各種具有特殊功能的薄膜，尤其是在微電子機械系統(tǒng)、微流體、納米壓印、微電子封裝、生物芯片等跨學(xué)科領(lǐng)域有著重要應(yīng)用。

反應(yīng)離子刻蝕機原理是將10~100MHZ高頻電壓置于平板電極之間能在試樣之前產(chǎn)生幾百微米厚的離子層。當(dāng)化學(xué)腐蝕時，離子以一種高速碰撞方式完成化學(xué)反應(yīng)腐蝕。所以，

儀器結(jié)構(gòu)：它主要由主機、控制系統(tǒng)、真空路等組成。1.主機：包括電壓源、電子槍、坩堝等；2.控制系統(tǒng)：工藝控制、溫控等系統(tǒng)；3.真空氣路系統(tǒng)：將初空泵和低溫真空泵

離子束濺射的優(yōu)點：1.離子束濺膜是一種動量交換，它使固體物質(zhì)內(nèi)的原子.分子進入氣相，濺射平均能量為10eV。經(jīng)過真空蒸發(fā)處理后，顆粒體積增加了100倍左右，在沉

介紹了脈沖激光沉積技術(shù)的發(fā)展過程發(fā)展過程： 脈沖激光沉積的研究和發(fā)展處處受制。實際上，當(dāng)時激光技術(shù)還不夠成熟，可獲得的激光種類有限，輸出的激光既不穩(wěn)定又重復(fù)頻率

分子束外延是一種用于物理，化學(xué)，材料科學(xué)等領(lǐng)域的分析儀器。 在半導(dǎo)體工藝中，分子束外延技術(shù)是近十幾年發(fā)展起來的一種新型技術(shù)，它是在超高真空條件下，與真空蒸鍍法相

超高真空約瑟夫森結(jié)量子比特制備鍍膜機，滿足高質(zhì)量約瑟夫森結(jié)的制備需要。

通過幾年的發(fā)展，粉體技術(shù)已形成多種制備加工工藝。而長期以來，由于缺乏有效的精密手段，表面涂層技術(shù)是改善粉末理化性能的重要手段。常規(guī)的液相涂覆或氣相涂布方法不能準