介紹了脈沖激光沉積技術的發展過程

發展過程：

  脈沖激光沉積的研究和發展處處受制。實際上，當時激光技術還不夠成熟，可獲得的激光種類有限，輸出的激光既不穩定又重復頻率又過低，使得任何實際的膜形成工藝都無法實施。因而，PLD在薄膜制造領域的發展相對滯后。作為一個例子，分子束外延(MBE)可以得到更好的薄膜質素。

  近十年來，激光技術的迅猛發展，使PLD的競爭力不斷提高。同以往的紅寶石激光器相比，當時的激光具有更高的重復頻率，使得薄膜制備成為可能。因此，可靠的電子Q開關激光器可以產生非常短的激光脈沖。這樣，PLD就可以在一定程度上實現目標的蒸發和沉積化學計量膜。因為紫外光照射，薄膜吸收的深度較淺。在這以后，高效率諧波激光器和激基分子激光甚至能產生強紫外輻射。此后，非熱激光熔靶物質的應用就變得極其有效。

脈沖激光沉積好處：

1.易于獲得預期化學計量比的多組分薄膜，即保存度好。

2.沉積速度快，測試周期短，基片溫度要求低，所制膜均勻。

工藝參數可任意調整，不受靶材種類限制。

4.發展潛力巨大和高度兼容。

5.可制備各種薄膜材料，便于清洗處理。

  以上就是小編為大家介紹的脈沖激光沉積的發展過程，感謝大家耐心的閱讀！