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公司產品
反應離子刻蝕機

反應離子刻蝕機

適用于各種硅、電介質、化合物半導體、金屬、聚合物和光刻膠等材料的等離子蝕刻。

v  功能特點

ü  樣品尺寸4",6",8"

ü  LOAD-LOCK全自動進樣系統

ü  ICP-RIE 刻蝕腔室,水冷樣品臺,可選氦氣被冷系統

ü  ICP感應耦合等離子體,射頻功率最大3KW,13.56MHz 或MP微波等離子體,最大功率3KW,2.56GHz

ü RIE下電極, 射頻功率600W,13.56MHz

ü  8路或12路刻蝕工藝氣體:Ar, O2, H2, N2, Cl2 ,CF4, CH4, SF6 ,SiCl4 , BCl3HBrC4F8CHF3可選,均帶MFC,防腐蝕

ü  高真空無油系統:防腐蝕渦輪分子泵+前級干泵系統

ü  FBBear系統控制軟件


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