原子層沉積設備的廣泛應用及工藝

什么樣的原子層沉積。

  原子層沉積是一種適合于發(fā)展先進、新產品的薄膜制備技術，它能將物質一層一層地鍍在基體表面，形成一層一層的原子膜。一次循環(huán)時，兩個或兩個以上的化學氣相前驅體依次在基材表面發(fā)生化學反應形成固體膜。利用一種橫流式反應腔，將惰性載氣通過極短脈沖注入到惰性載氣中。稀有氣體以一種有秩序的波攜帶脈沖前驅，再經反應器、管道、過濾系統(tǒng)，經過真空泵。新的原子膜在原子層上沉積時，直接作用于原子層的前層，所以每一步反應只會沉積一層。

目前，應用較多的是原子層沉積設備

   在單個原子膜上鍍一層物質，是制備薄膜材料的一種重要手段，也是制備薄膜材料的重要手段。因此工藝具有厚度可控、均勻性好、保形性好等諸多優(yōu)點，特別適合用于填充高寬比圖形的寬寬比。原子層沉積設備已經在多個領域得到了廣泛的應用。這是制備多功能膜的重要方法之一。

  以上就是小編今日為大家介紹的原子層沉積設備的廣泛應用及工藝，希望對您有所幫助。

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