激光直寫光刻機(jī)知識(shí)點(diǎn)

   激光直寫光刻機(jī)知識(shí)是一種多功能激光光刻機(jī)，采用固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源，直接在光刻膠或紫外敏感膠中刻劃出微結(jié)構(gòu)，直寫面積可達(dá)6英寸，較小特征尺寸(寬)可達(dá)1微米，適用于掩蔽、半導(dǎo)體、玻璃、晶體、薄膜等多種基片。

  激光直寫光刻機(jī)知識(shí)，提供垂直直寫和掃描兩種方式，保證正軌偏差小于100nm。本實(shí)用新型采用電動(dòng)光學(xué)聚焦系統(tǒng)，能迅速、準(zhǔn)確地對(duì)焦，以適應(yīng)各種厚度基板的要求，并有可供客戶選擇的晶圓裝、卸料系統(tǒng)，加強(qiáng)清潔度，增加工作效率，提高用戶安全性。

激光直寫光刻機(jī)知識(shí)特點(diǎn)”

1.十分緊湊的桌面式設(shè)計(jì)。

2.遮蔽制作與激光直寫。

3.可選擇375nm或405nm的激光光源。

4.適用于各種商業(yè)光刻膠。

5.這種反差可以達(dá)到1x20。

6.自動(dòng)聚焦

7.垂直書寫或掃描直寫模式。

8.激光直寫高分辨光刻機(jī)的參數(shù)。

9.直寫速度：可達(dá)500mm/s。

10.位移儀分辨率：100nm。

11.循環(huán)精度：100nm。

12.薄片直寫面積：1-6英寸。

13.襯底厚度：250um-10mm。

14.激光點(diǎn)尺寸：1um-50um。

15.標(biāo)定精度：500nm。